Desenvolvimento de dispositivos MEMS para deposição de filmes finos por microCVD

Abstract

Este trabalho visa estabelecer processos de fabricação de dispositivos micro aquecedores e sensores de temperatura do tipo microRTD. Durante o projeto dos dispositivos simulações computacionais foram utilizadas para estabelecer parâmetros de design assim como etapas do processo de fabricação. Dispositivos microRTD foram fabricados e os parâmetros das diferentes etapas do processo de fabricação foram discutidos. Os sensores fabricados foram calibrados para obter medidas em tempo real nos micro aquecedores. Um software em LabView foi desenvolvido permitindo o controle automatizado dos micro aquecedores e leituras de temperatura dos sensores microRTD em tempo real. Dispositivos micro aquecedores MEMS com sensores de temperatura RTD integrados foram fabricados e medidas de temperatura foram tomadas em tempo real em processo simulado de deposição de filmes fino por microCVD. A obtenção de filmes finos depositados por microCVD nos dispositivos micro aquecedores foi apresentada, incluindo silício mono e policristalino, estes filmes foram caracterizados por espectroscopia Raman e os resultados foram discutidos.

This work aims to establish manufacturing processes for microheater devices and microRTD temperature sensors. During the design of the devices, computer simulations were used to establish design parameters as well as stages of the fabrication process. MicroRTD devices were fabricated and the parameters of the different steps of the fabrication process were discussed. The manufactured sensors were calibrated to obtain real-time measurements on the micro heaters. A software in LabView was developed allowing the automated control of the micro heaters and temperature readings of the microRTD sensors in real time. MEMS microheater devices with integrated RTD temperature sensors were fabricated and temperature measurements were taken in real time in a simulated microCVD thin film deposition process. Obtaining thin films deposited by microCVD on micro heater devices was presented, including mono and polycrystalline silicon, these films were characterized by Raman spectroscopy and the results were discussed.